532nm窄带滤光片
注:以上参数仅供参考，532nm窄带滤光片参数指标请咨询我公司的在线客服人员或致电我公司。光学指标：
中心波长 Center wavelength：532+/-2nm
入射角 Angle of incidence：0°
半峰值带宽 Full Width at Half Maximum：20nm
峰值透过率 Transmission at CWL：>90%( 按客户需求According to the customers’demand ）
产品尺寸 Prdouct size：3mm-80mm( Square or round )
截止波长 Cut off wavelength：200nm-1100nm( 按客户需求According to the customers’demand ）
截止深度 Blocking：>OD4-OD6 UV-NIR
产品材质 Product material：光学级别类玻璃（ K9,BK7,B270,D263T,JGS1,颜色玻璃,浮法玻璃等 )
表面光洁度 Surface Quality：国标三级，美军标60-40
532nm窄带滤光片是从带通滤光片中细分出来的，它的定义跟带通滤光片一样，都是在特定的波段允许光信号通过，而偏离这个波段以外的两侧光信号就被阻止了。然而窄带滤光片的通带相对来说是比较窄的，一般为中心波长值的5%以下，采用全介质硬膜镀膜的技术和介质干涉的原理，在凸显窄带滤光片特性的基础上，光学性能与基片厚度无关，我司生产的窄带滤光片更便于内置仪器成像系统里面，使之光学性能得以提升和有效应用，采用特殊的光学材料基底，解决传统意义上吸收型合成玻璃易发雾及光学性能不稳定等问题，产品依据客户的指标需求予以生产制作。
相关名词解释
532nm窄带滤光片主要应用在生化仪、光学测量仪器、酶标仪、生物识别、红外医疗仪器、荧光分析仪、医疗检测设备等。
使用注意事项：
1.使用时请戴好手指套，不要用手指直接触碰532nm窄带滤光片表面，以免残留的手指影响窄带滤光片通光效果。
2.如532nm窄带滤光片表面脏时，可用无尘沾上酒精擦拭镜片表面。不可用表面很粗糙的布或纸或沾水擦拭，否则会损坏532nm窄带滤光片表面。
3.检查光路各调整光轴时，请一定做好相应的防护。
4.如果用了532nm窄带滤光片后系统效果还是不好，请把详细光路系统告诉我们，我们来帮您分析原因，让您少走很多冤枉路。（当然，我们会对客户的方案保密，尽可放心！和客户一起成长是我们不变的宗旨）。
针对软膜的外缘胶合封装结构是采用的一种独特的结构，通常使用在带通滤光片或截止滤光片上。滤光膜层（如窄带介电带通膜层、ITF膜层、宽带介电带通膜层及反光镜面膜层等）一般分别镀在几片独立的基片平板上。根据滤光片最终的尺寸及形状，我们对平板上的膜层及基板进行平面的磨削加工，在平板上保留符合通光孔径标准的膜层，并且将多余的膜层磨削去除，同时也磨去一定厚度在通光孔径周围的基板材料。将两块或多块基板材料用环氧树脂胶合在一起。这样在软膜的周围可以形成玻璃—环氧树脂—玻璃的密封结构，可以最大限度的保护潮湿气体对镀膜层的损害。经过胶合工艺后，对外缘进行加工及可以得到需要尺寸的滤光片成品。
这种结构通常用在需要信噪比很高，而且要求通光孔径比很高（通光区域外的尺寸太小，不能用外缘胶合封装结构）的带通滤光片上。滤光膜层（如窄带介电带通膜层、ITF膜层、宽带介电带通膜层及反光镜面膜层等）一般分别镀在几片独立的基片平板上，并且直接胶合在一起。设计工程师通常会选用化学稳定性及耐潮性能较好的镀膜膜料，以防止以后潮湿气体对膜层的损害。这种工艺也可以根据客户的要求，调整或附加抗湿保护层以满足客户对使用寿命的需求。
一种制作滤光片红外材料透镜的方法，可增加一半导体晶片上的一滤光片附着力并避免光线的跨越干扰现象;该方法是先于该半导体晶片上形成一介电层以覆盖设于该半导体晶片上的MOS晶体管感测器;然后于该介电层上形成复数个金属层约略设置于各MOS晶体管感测器两侧上方;接着形成一保护层，并于该保护层上形成一第一滤光片，其两侧与下方的两该金属层约略对齐;之后依序于该保护层上形成一第二滤光片以及一第三滤光片且分别部分相叠于该第一滤光片的一侧;其中各滤光片相叠的部分可以提高各该滤光片的附着力，同时形成一光线阻障层，以避免光线的跨越干扰红外滤光片的作用就是透红外光截止可见光。这样即使在光线不好或没有的情况下，相机仍然可以拍摄不过是黑白效果了。
