可见光衰减片

可见光衰减片光学指标：截止波段：400~700nm@T=0.001%，0.01%，0.1%，1%，10%，20%，30%，40%，50%，60%，70%，80%，90%。

注:以上参数仅供参考，可见光衰减片参数指标请咨询我公司的在线客服人员或致电我公司。
相关名词解释

产品概述中性密度滤光片知识相关资讯资料下载

可见光衰减片应用领域：医疗设备光探测器、临床生化分析设备、化学检测设备、各种光学仪器设备、电子学显像系统、紫外测量仪器、各种激光器、光学数码照相机、摄像机、安防监控摄像机、光通讯衰减滤波器。

使用注意事项：

1.使用时请戴好手指套，不要用手指直接触碰可见光衰减片表面，以免残留的手指影响中性密度滤光片通光效果。

2.如可见光衰减片表面脏时，可用无尘沾上酒精擦拭镜片表面。不可用表面很粗糙的布或纸或沾水擦拭，否则会损坏可见光衰减片表面。

3.检查光路各调整光轴时，请一定做好相应的防护。

4.如果用了可见光衰减片后系统效果还是不好，请把详细光路系统告诉我们，我们来帮您分析原因，让您少走很多冤枉路。（当然，我们会对客户的方案保密，尽可放心！和客户一起成长是我们不变的宗旨）。

可见光衰减片的方法有很多种，包括电镀、化学镀，真空蒸发镀以及磁控溅射镀膜法。

工业化生产中人们既关心产品的综合性能又要考虑制备成本，在以上制备方法中化学镀膜工艺流程简单，成本低廉，且操作简便，因此受到人们的重视，但该方法会产生废液，污染环境；磁控溅射镀膜工艺技术先进，制备的薄膜具有质量保证，是目前广泛应用的一种制备手段，相比于其他方法，磁控溅射镀膜具有成膜速率高，基片温度低，膜粘附性好等镀膜优点，而且对环境无污染，适合低碳要求，是一种绿色制造技术，是最有发展前景的表面涂覆技术之一。

从市场需求的角度看，满足光衰减器小型集成化、系列化的发展，但其使用设备仪器复杂，靶材尺寸固定，原材料需要加工，成本相对较高。

基于产品性价比的考虑，有必要对化学镀和磁控溅射镀这两种典型镀膜方法进行综合分析和对比，进而研究工艺参数对 Ni/Si O 2 光衰减片的表面形貌、晶体结构、三维结构、粗糙度以及对光衰减率的影响，通过调节工艺参数来获得具有不同光衰减率的光衰减片，从而满足人们对不同膜系功能的需求。

产品正在更新中~如需要该产品请致电0755-28052697到我司，期待您的来电！

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